【冲破美国半导体封锁禁令！中国据称将实现DUV光刻机国产化】

　　据科技媒体《信息报》援引消息人士报导称，一家总部位于上海的中国公司已开始限量生产沉浸式深紫外光刻机。这家公司计划今年生产5套系统以供交付，预计到2027年生产约20台沉浸式深紫外光刻机。

　　自2019年起，美国禁止向中国出口最先进的极紫外（EUV）光刻机，并从2023年开始禁止向中国出口浸没式DUV设备。中国自2019年起便致力于光刻机的国产化，经过7年的努力，终于实现了DUV的国产化。